真空镀膜机

 

型号 JPGF-400B

国别厂家 北京北仪创新真空技术有限责任公司

购置日期 2005年

金 额 31.6万

技术指标 1.溅射室尺寸:Φ400mm×370mm

2.极限压力:8×10^-5Pa

3.溅射室恢复真空时间:从大气状态下抽到9×10^-4Pa≤40min

4.工作压力:10～10^-1Pa

5.靶材最大厚度:6mm

6.基片架:尺寸:Φ130mm, 转速:1.5r/min～12.5r/min

7.磁控靶0º～75º可调,与基片距离75～125mm

8.基片烘烤:最高温度650℃,PID调节

9.溅射工作气体引入:二路质量流量计,一路自动压强控制仪

10.溅射功率源:频率RF13.56MHz 500w 2套

DC 恒流源 功率 1000W

主要用途

主要配置 真空系统,溅射台,磁控溅射电源(直流/射频),真空室

使用部门 物理实验中心

存放地址 2号学院楼151

联 系 人 徐晓峰