紫外光固化与光刻系统
Lithography Equipment
型 号 URE-2000/35
国别厂家 中国科学院光电技术研究所
购置日期 2009年
金 额
技术指标 1.曝光面积：Φ150mm；
2.照明不均匀性：≤±4%（ Φ100mm范围）；≤±7%（ Φ150mm范围）
3.分辨力：1.5 mm（胶厚1.5 mm的正胶，365nm波长）
4.对准精度：±0.8mm；
5.掩模样片整体运动范围：X：±10mm;Y: ±10mm；
6.掩模尺寸：3英寸、4英寸、5英寸、6英寸；
7.样片尺寸范围：直径Φ15mm-- Φ150mm、厚度0.1mm--8mm；
8.掩模相对于样片运动行程：X:±5mm; Y:±5mm; θ:±6°；
9.汞灯功率：350W（直流）；
10.曝光方式：定时（倒计时方式0.1s—999s）；
11.曝光波长：365nm
12.曝光能量密度：15mW/cm2
主要用途 制造集成电路、传感器、微流体芯片、生化芯片及微反应器的光刻设备
主要附件 紫外光固化箱、匀胶机、真空泵、空压机
使用部门 材料科学实验室
存放地址 松江校区5号学院楼A317
联 系 人 张耀鹏
