真空镀膜机
型号 JPGF-400B
国别厂家 北京北仪创新真空技术有限责任公司
购置日期 2005年
金 额 31.6万
技术指标 1.溅射室尺寸:Φ400mm×370mm
2.极限压力:8×10-5Pa
3.溅射室恢复真空时间:从大气状态下抽到9×10-4Pa≤40min
4.工作压力:10~10-1Pa
5.靶材最大厚度:6mm
6.基片架:尺寸:Φ130mm, 转速:1.5r/min~12.5r/min
7.磁控靶0º~75º可调,与基片距离75~125mm
8.基片烘烤:最高温度650℃,PID调节
9.溅射工作气体引入:二路质量流量计,一路自动压强控制仪
10.溅射功率源:频率RF13.56MHz 500w 2套
DC 恒流源 功率 1000W
主要用途
主要配置 真空系统,溅射台,磁控溅射电源(直流/射频),真空室
使用部门 物理实验中心
存放地址 2号学院楼151
联 系 人 徐晓峰