(1)系统组成:主要由台架、真空室、抽气系统、真空检测、电控系统。 (2)蒸发源多套。蒸发源配1台一带二1000W可控硅调压电源,通过铜电极连接,两端可夹钨绞丝或者钽舟,钨绞丝可以蒸镀丝状或者大颗粒材料,钽舟可以蒸镀粉末状材料,蒸镀源采用陶瓷全密封,避免交叉污染; (3)样品台具有旋转、升降功能,掩模板与样品无间隙贴合,配有1套样品架,样品与蒸发源之间的间距为200-300mm; (4)镀膜室配石英晶振膜厚监测仪进行薄膜厚度监测,并配备1个石英晶振探头。膜厚仪厚度分辨率1pm,速率分辨率1pm/s; (5)真空系统:采用分子泵+机械泵真空系统。分子泵抽速600L/S;直联旋片机械泵,抽速8L/S;配高CF150真空挡板阀; (6)整套机组配有水压检测、缺相保护、误操作保护等功能; (7)整套系统操作均由PLC及液晶触摸屏控制。 (8)供电:~380V三相供电系统(容量10KW);供水:冷却水循环量0.3M3/H,冷却水温度15℃~20℃;工作环境温度:10℃~40℃ |